深化通过调节主体聚合物的电子亲和能和调节掺杂剂与主体材料之间的混溶性被证明是优化离子化过程的有效方法。

文献链接：源电业应用Tuninggate‐openingofaflexiblemetal‐organicframeworkforternarygassievingseparation(Angew.Chem.Int.Ed.,2020,DOI:10.1002/anie.202011802)课题组简介：源电业应用段金贵，南京工业大学，博士生导师，教授。提供2-3推荐人的姓名及有效联系方式）发送至：力企[email protected]（段老师），邮件标题以应聘博士后+姓名命名。

图四、大数NTU-65在263k下的穿透曲线（a）C2H2/C2H4二元混合物分离。这种选择性吸附使C2H4从C2H4/C2H2/CO2三元混合物中一步分离出C2H4，深化通过单次穿透循环可获得高纯度C2H4。【图文导读】图一、源电业应用NTU-65的结构和通道（a-c）L1，SiF62-离子和Cu中心的配位构型。

力企棕红色多面体代表八面体配位的铜原子。大数从而实现了该三元混合物的高效筛分分离。

图三、深化CO2/C2H4分离性能与基准材料相比，NTU-65从CO2/C2H4（75/25，v/v）中回收C2H4的数量和百分比。

依托于材料化学工程国家重点实验室，源电业应用课题组的研究主要集中在挑战性能源气体的分离为导向MOF吸附剂和MOF膜的设计与组装。根据物镜后背焦面上的衍射普，力企用物镜套住透射束或者一级衍射束的成像方式得到的图像，力企这些情况下所成图像的衬度由散射电子的衍射产生，所以叫做衍射衬度。

大数下面我们结合具体的图片来看看衍射成都成像的具体运用。双光束条件是获得好的衬度的必要条件，深化在双光束条件下明场与暗场的像衬度互补。

层错的明场像，源电业应用外侧条纹衬度相对于中心对称，外侧条纹均为亮条纹或均为暗条纹，而暗场像外侧条纹相对于中心不对称，外侧条纹一亮一暗。由于基体点阵常数与第二相粒子点阵常数不同，力企使得第二相粒子与附近基体发生畸变。